Masque facial peeling peau parfaite à l'acide glycolique

Description

Le nouveau masque facial peel-off Perfect Skin d'Iroha Nature aide à favoriser le renouvellement cellulaire, améliorant ainsi la texture et l'éclat de la peau. Son principal ingrédient actif est l’acide glycolique.

Propriétés et avantages de Masque facial peeling peau parfaite à l'acide glycolique

L'acide glycolique aide à éliminer les peaux mortes de la couche la plus externe de la peau, ainsi que l'excès de sébum et les impuretés, laissant la peau plus lumineuse et plus jeune.
Grâce aux propriétés hydratantes, apaisantes et antioxydantes de la centella asiatica, la peau est renouvelée sans irritation ni dessèchement.
Il est indiqué pour améliorer la texture et apporter de la luminosité aux peaux normales/mixtes.

Comment appliquer Masque facial peeling peau parfaite à l'acide glycolique?

Il est recommandé de déplier le masque et de le placer sur un visage propre.
Après 15 minutes, retirez et massez doucement pour absorber complètement le sérum.
Ne pas rincer la peau. Idéalement une fois par semaine.

Précautions

Éviter le contact avec les yeux.

Composition de Masque facial peeling peau parfaite à l'acide glycolique

Aqua/eau/eau, propanediol, glycérine, arginine, acide glycolique, extrait de Centella asiatica, extrait de racine de Paeonia suffruticosa, extrait de fleur de Chamomilla recutita, extrait de Laminaria japonica, extrait de Gelidium cartilagineum, extrait de Salicornia herbacea, extrait d'Hizikia fusiforme, extrait de fleur de Nelumbo nucifera, extrait de fleur de Prunus serrulata, extrait de Lilium tigrinum, caprylate de glycéryle, éthylhexylglycérine, phytate de sodium, hyaluronate de sodium, bétaïne, gomme xanthane, butylène glycol, hydroxyéthylurée, 1,2-hexanediol, laurate de polyglycéryl-10, parfum (fragrance).

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